Yansıma ölçümü, yoğunluk, kalınlık ve pürüzlülük tespiti, filmlerin optik, fiziksel ve kimyasal özelliklerini anlamak ve film hazırlama sürecini optimize etmek için büyük önem taşır. Bu parametreler, birçok uygulamada film performansını ve davranışını belirlemede kritik faktörlerdir.
Polikristalin nano ölçekli film, birden fazla kristal taneciğe sahip ve tane boyutu nanometre aralığında olan bir film malzemesidir. Bu malzeme, nanoteknoloji, malzeme bilimi ve mühendislik gibi alanlarda geniş bir uygulama yelpazesine sahiptir. X-ışını kırınımı (XRD), polikristalin nano ölçekli filmlerin nitel analizinde filmin kristal yapı tipini, kafes parametrelerini ve mevcut kristal fazlarını belirlemeye yardımcı olabilir. Ayrıca, tane boyutu ve kafes bozulması gibi faktörler de kırınım tepe noktasının genişliğinin XRD analizi ile tahmin edilerek film yapısının doğru ve güvenilir nitel analizi sağlanabilir.
